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半导体芯片工艺设备
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快速退火炉 (RTP)
日期:2020/3/11 9:50:26 点击:5598

品牌

产地

展示型号

 

品牌1

Allwin21

美国

AccuThermo AW610 快速退火炉

详情请来电咨询

品牌:Allwin21(美国)

AccuThermo AW610 快速退火炉

 

Ø 尺寸适用范围:小样片及6英寸以下圆片

Ø 传片方式:手动

Ø 类型:台式,常压保护气氛快速退火系统

Ø 温度适用范围:100 ~ 800 °C 或 450 ~ 1250 °C

Ø 气路配置:根据客户需求配置MFC量程,最多可配备6路

AccuThermo AW 610 概述:
AccuThermo AW610是一款用高强度可见光加热单片wafer或样片的快速退火系统,其工艺时间短,控温精度高。工艺稳定时间最大可设置到9999秒,一般推荐1-600秒。

相对于传统的炉管式退火系统,其独特的水冷腔体设计、先进的温度控制技术以及Allwin21研发的RTAPRO软件控制系统,确保了优越的温度均匀性。

工艺时,wafer放置在独立的石英腔体内的石英载盘上,通过软件操作手动或自动加热模式控制上下两排的四组灯管对wafer进行加热。

RTAPRO软件可以全方位控制、监控AccuThermo快速退火系统,允许工程师自由创建、编辑工艺菜单,通过调整时间、温度、工艺气体流量等参数,控制工艺流程

AccuThermo AW 610主要特点:

1. 水冷镀金腔体设计在过去30年里已得到业内认可 ()

2. 上下两排灯管加热保证了优越的温度均匀性 ()

3. 提供两种测温方式(非接触式高温计或热电偶传感器)并采用了闭环温度控制设计 ()

4. 实时显示温度曲线,适合特殊工艺需要()

5. 传统技术无法实现的快速升温、降温速率

6. 稳定的片间工艺重复性

7. 隔离的石英腔体结构避免了外部污染

8. 体积小、能耗少

9. 集所有控制为一体的操作软件 ()

ü 图形用户界面 ()

ü 实时工艺过程数据采集 ()

ü 实时工艺曲线 ()

ü 工艺数据分析 ()

ü 工艺数据及菜单存储于计算机硬盘 ()

ü 多步骤的工艺菜单编辑 ()

ü 工艺菜单编辑操作简单 ()

ü 系统诊断功能 ()

ü 腔体校准功能易于实现温度平滑控制 ()

ü 高温计软件校准操作简单、方便 ()

ü 气路流量软件校准操作简单、方便 ()

ü C通道软件校准操作简单、方便 ()

ü 功率监测功能,保证良好的工艺重复性 ()

ü 丰富的硬件诊断功能,方便设备维护及维修 ()

ü 软件“看门狗”功能,可以及时切断灯管电源,有效防止温度失控

应用:

AccuThermo 快速退火系统的应用:

ü 离子注入激活

ü 多晶硅退火

ü 氧化回流

ü 硅化物形成

ü 欧姆接触合金

ü 氧化物、氮化物生长

ü 砷化镓工艺


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